職務(wù)：
上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司 平板顯示事業(yè)部總經(jīng)理
個(gè)人簡(jiǎn)介
周暢，男，1975.1，華中科技大學(xué)工學(xué)博士，教授級(jí)高級(jí)工程師，國(guó)家中組部“萬(wàn)人計(jì)劃”領(lǐng)軍人才?，F(xiàn)為上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司平板顯示事業(yè)部總經(jīng)理，曾主持研制半導(dǎo)體先進(jìn)封裝光刻機(jī)、平板顯示G2.5/G4.5/G6曝光機(jī)等多款高端精密裝備，榮獲上海市科學(xué)技術(shù)獎(jiǎng)一等獎(jiǎng)、中國(guó)國(guó)際工業(yè)博覽會(huì)金獎(jiǎng)等多項(xiàng)獎(jiǎng)勵(lì)。
演講題目
精益求精，國(guó)產(chǎn)平板顯示曝光機(jī)創(chuàng)新發(fā)展之路
演講概要
多年來，SMEE不斷創(chuàng)新，銳意進(jìn)取，在風(fēng)雨中逐漸發(fā)展壯大國(guó)產(chǎn)平板顯示曝光機(jī)。秉承精益求精的精神，分辨率從2微米到1.5微米，再革新向1.2微米發(fā)展；同時(shí)，所支持的基板尺寸從2.5代到4.5代，再發(fā)展到6代和8代。然而，所需關(guān)鍵技術(shù)也越來越精密和復(fù)雜；SMEE不斷攻克難關(guān)，開發(fā)了兩大系列具有獨(dú)立自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的國(guó)產(chǎn)曝光機(jī)。其中，小掩模系列曝光機(jī)采用獨(dú)創(chuàng)的放大倍率物鏡和精密的拼接曝光技術(shù)，具有高精度和低成本等特點(diǎn)；大掩模系列曝光機(jī)采用創(chuàng)新的光機(jī)技術(shù)，具有高透過率和大曝光場(chǎng)等特點(diǎn)。國(guó)產(chǎn)曝光機(jī)正在助力我國(guó)新型顯示產(chǎn)業(yè)發(fā)展，未來將發(fā)揮越來越大的作用。